① 福建阿石创新材料股份有限公司怎么样
简介:福建阿石创新材料股份有限公司于2002年10月29日在福州市市场监督管理局登记成立。法定代表人陈钦忠,公司经营范围包括有色金属新型合金材料、真空蒸镀膜料、溅射靶材等。
法定代表人:陈钦忠
成立时间:2002-10-29
注册资本:14112万人民币
工商注册号:350100100036238
企业类型:股份有限公司(上市、自然人投资或控股)
公司地址:长乐市航城街道琴江村太平里169号
② 靶材 溅射靶材区别
靶材有电弧靶材、溅射靶材、蒸镀靶材。。。。
③ 半导体用超高纯金属溅射靶材和高纯金属溅射靶材有区别吗
有区别的,超高纯的纯度会更高一些,半导体上要求会更高一些。
④ 磁控溅射中的靶材分为金属合金靶和陶瓷靶,那像一些金属氧化物的靶材为什么叫陶瓷靶呢
首先靶材有纯金属靶,也有合金靶(两种或者多种金属掺在一起),还有就是一些不导电的靶材,好多都是氧化物的靶材。把氧化物的靶材成为陶瓷靶也不是很规范的。
常用的靶材有:硅铝靶、氧化钛靶、锡靶、锌铝、锌锡、锌锡锑、钛靶、不锈钢靶、铬靶、铌靶以及旋转ZAO靶材等。
⑤ 生产高纯金属溅射靶材对身体有害吗
有靶材中毒的说法,但是靶材中毒指的是靶材受到外界环境影响或者遇到氧化物等致使靶材不能导电等正常使用,不是说靶材对人体有毒。一般靶材对人没有毒的,个别化合物靶材可能对人体接触面有伤害,接触的时候注意隔离。
⑥ 关于磁控溅射靶材的问题
回答问题可能不是特别对口,部分题目不是特别详细,也没办法详细。如果有疑问再追问或者联系我。
1.膜层厚度测量问题:如果是纯净的氧化锌,或者说是透明的,就可以用光学方法测量膜层厚度,如果是非透明的,就用台阶仪,这量类的测量厚度的光学仪器不少,我不再细说。需要注意的是选择适当的测量范围的仪器。
2.一般磁控溅射可以分为直流(二级)溅射、中频、射频。直流溅射电源便宜,沉积膜层致密度较差,一般国内光热、薄膜电池选择使用的方法,能量较低,溅射靶材为金属靶材。射频能量较高,一般溅射陶瓷靶材。中频两者之间,溅射靶材也为金属靶材。
3.金属靶材溅射过程中,具有溅射速率和沉积速率。溅射速率是靶材原子被溅射逸出的情况,而沉积在基体上的情况为沉积速率,两者在溅射气压等外界环境不同的情况下,并不成正比。但是需要固定工艺下的长时间计算可以确定镀膜时间的。(但是这个时间一般按照溅射完成后膜层的厚度测量来的更加准确)
4.在金属靶材溅射过程中,如果想达到氧化亚锌的理想值,比较难,需要精确控制溅射产额和氧气流量。一般溅射物质为氩气(价格便宜,溅射产额较高)。主要为控制过程,国内的质量流量计一般都比较粗,建议用压电陶瓷阀,德国的sus04。另一个方案是射频溅射氧化亚锌陶瓷靶材,这个容易控制溅射后沉积膜层的两元素的比值。但是需要靶材符合两元素的比之条件,另外,在射频溅射过程中,需要严格控制靶材,陶瓷靶溅射过程中,容易断裂。还有就是射频的危害性较大。
以上为泛泛而谈。如果不通,精确讨论是免不了的。
⑦ 什么是溅射靶材
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏 、激光存储器、电子控制器件等,亦可应用于玻璃镀膜领域,还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
(7)稀贵金属合金溅射靶材扩展阅读:
注意事项:
保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物,直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。
为保持镀膜的成分特性,溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥,溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出,达到工艺所要求的真空度。