稀貴金屬合金濺射靶材

① 福建阿石創新材料股份有限公司怎麼樣

簡介：福建阿石創新材料股份有限公司於2002年10月29日在福州市市場監督管理局登記成立。法定代表人陳欽忠，公司經營范圍包括有色金屬新型合金材料、真空蒸鍍膜料、濺射靶材等。
法定代表人：陳欽忠
成立時間：2002-10-29
注冊資本：14112萬人民幣
工商注冊號：350100100036238
企業類型：股份有限公司(上市、自然人投資或控股)
公司地址：長樂市航城街道琴江村太平里169號

② 靶材 濺射靶材區別

靶材有電弧靶材、濺射靶材、蒸鍍靶材。。。。

③ 半導體用超高純金屬濺射靶材和高純金屬濺射靶材有區別嗎

有區別的，超高純的純度會更高一些，半導體上要求會更高一些。

④ 磁控濺射中的靶材分為金屬合金靶和陶瓷靶，那像一些金屬氧化物的靶材為什麼叫陶瓷靶呢

首先靶材有純金屬靶，也有合金靶（兩種或者多種金屬摻在一起），還有就是一些不導電的靶材，好多都是氧化物的靶材。把氧化物的靶材成為陶瓷靶也不是很規范的。
常用的靶材有：硅鋁靶、氧化鈦靶、錫靶、鋅鋁、鋅錫、鋅錫銻、鈦靶、不銹鋼靶、鉻靶、鈮靶以及旋轉ZAO靶材等。

⑤ 生產高純金屬濺射靶材對身體有害嗎

有靶材中毒的說法，但是靶材中毒指的是靶材受到外界環境影響或者遇到氧化物等致使靶材不能導電等正常使用，不是說靶材對人體有毒。一般靶材對人沒有毒的，個別化合物靶材可能對人體接觸面有傷害，接觸的時候注意隔離。

⑥ 關於磁控濺射靶材的問題

回答問題可能不是特別對口，部分題目不是特別詳細，也沒辦法詳細。如果有疑問再追問或者聯系我。
1.膜層厚度測量問題：如果是純凈的氧化鋅，或者說是透明的，就可以用光學方法測量膜層厚度，如果是非透明的，就用台階儀，這量類的測量厚度的光學儀器不少，我不再細說。需要注意的是選擇適當的測量范圍的儀器。
2.一般磁控濺射可以分為直流（二級）濺射、中頻、射頻。直流濺射電源便宜，沉積膜層緻密度較差，一般國內光熱、薄膜電池選擇使用的方法，能量較低，濺射靶材為金屬靶材。射頻能量較高，一般濺射陶瓷靶材。中頻兩者之間，濺射靶材也為金屬靶材。
3.金屬靶材濺射過程中，具有濺射速率和沉積速率。濺射速率是靶材原子被濺射逸出的情況，而沉積在基體上的情況為沉積速率，兩者在濺射氣壓等外界環境不同的情況下，並不成正比。但是需要固定工藝下的長時間計算可以確定鍍膜時間的。（但是這個時間一般按照濺射完成後膜層的厚度測量來的更加准確）
4.在金屬靶材濺射過程中，如果想達到氧化亞鋅的理想值，比較難，需要精確控制濺射產額和氧氣流量。一般濺射物質為氬氣（價格便宜，濺射產額較高）。主要為控制過程，國內的質量流量計一般都比較粗，建議用壓電陶瓷閥，德國的sus04。另一個方案是射頻濺射氧化亞鋅陶瓷靶材，這個容易控制濺射後沉積膜層的兩元素的比值。但是需要靶材符合兩元素的比之條件，另外，在射頻濺射過程中，需要嚴格控制靶材，陶瓷靶濺射過程中，容易斷裂。還有就是射頻的危害性較大。
以上為泛泛而談。如果不通，精確討論是免不了的。

⑦ 什麼是濺射靶材

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統把電子發射並聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。

濺射靶材主要應用於電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏 、激光存儲器、電子控制器件等，亦可應用於玻璃鍍膜領域，還可以應用於耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

(7)稀貴金屬合金濺射靶材擴展閱讀：

注意事項：

保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學雜質含量超標經常是由於不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。

為保持鍍膜的成分特性，濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔並乾燥，濺鍍腔內裝入基材後便需將空氣抽出，達到工藝所要求的真空度。